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產(chǎn)品簡介

Product Introduction
PVD磁控濺射鍍膜機

1.利用磁控濺射原理，將箔類物質(zhì)表面鍍納米級鍍層；
2.在復(fù)合集流體領(lǐng)域，可以在PP/PET薄膜表面鍍納米級的種子層銅層；

設(shè)備特性
?EQUIPMENT CHARACTERISTICS

    基于磁控濺射的原理，將靶材材質(zhì)轉(zhuǎn)移到附著物上

    內(nèi)置卷繞機構(gòu)，主要針對可以放卷收卷的箔類物

    鍍層較薄，從幾nm到幾百nm之間，因靶材材質(zhì)不同，有很大差異

    溫度、扭矩、轉(zhuǎn)速等參數(shù)各級獨立控制

產(chǎn)品參數(shù)
Product parameters
參數(shù) 參數(shù)值
成膜寬度 客戶定制, 800-1700mm
成膜速度 8-50m/min
鍍層厚度 20-80nm
復(fù)合銅箔鍍膜電阻 1-2.5 歐方阻
可鍍最大卷徑 Φ600mm