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真空吸著方式を採用し、基材は吸著臺上の多孔板に吸著され、吸著臺はコーティングダイの下をX方向に均一な速度で通過し、コーティングダイは予め混合され脫泡されたスラリーを基材フィルムに均一にコーティングする。吸著プラットフォームは乾燥?加熱機能を備えており、コーティングプロセス中に加熱?乾燥させることができる。 本裝置は実験用にカスタマイズされており、プロセス研究や小ロット生産を容易にする。

1. ペーストの使用量が少なくて、ペーストの調(diào)合の検証を行うのに便利;
2. 実験室の設置に適したコンパクトな裝置。
3. 操作は簡単で、メンテナンスも容易。
4. 低騒音、環(huán)境への汚染なし。